TEKNOLOGI, Perspektif.co.id — Dai Nippon Printing (DNP) Corporation, raksasa percetakan dan material semikonduktor asal Jepang, resmi mengumumkan keberhasilan pengembangan teknologi nanoimprint lithography (NIL) dengan lebar garis sirkuit mencapai 10 nanometer pada akhir Desember 2025. Teknologi ini dirancang khusus untuk pola sirkuit logika kelas 1,4 nanometer, dengan evaluasi pelanggan sudah dimulai dan target produksi massal pada 2027, menandai langkah strategis Jepang untuk mengurangi ketergantungan pada mesin Extreme Ultraviolet (EUV) lithography dari ASML sambil memangkas konsumsi energi hingga 90 persen.
Pengumuman ini disampaikan DNP di tengah gelombang ambisi nasional Jepang untuk merebut kembali supremasi semikonduktor, didukung pemerintah melalui investasi besar-besaran di Rapidus dan kolaborasi dengan Canon serta Nikon. Teknologi NIL bekerja dengan mekanisme “stempel” fisik menggunakan template master yang mencetak pola langsung ke lapisan resist pada wafer, berbeda dari pendekatan cahaya EUV yang memerlukan sumber laser plasma super panas dan infrastruktur mahal. Hasilnya, proses ini tidak hanya lebih hemat energi—hanya sepersepuluh dari EUV—tetapi juga mengurangi kompleksitas peralatan dan ruang cleanroom, ideal untuk lapisan-lapisan kritis di node canggih seperti smartphone, data center, dan NAND Flash.
DNP telah memamerkan prototipe 10nm NIL ini di SEMICON Japan 2025 di Tokyo Big Sight, di mana para insinyur dari pabrik-pabrik global seperti TSMC, Samsung, dan Intel mulai melakukan pengujian awal. Teknologi ini menggunakan material template baru yang tahan lama dan akurat, mampu menangani overlay presisi tinggi serta defectivity rendah, dua tantangan utama yang selama ini menghambat adopsi NIL di produksi volume tinggi.
“Teknologi ini dirancang untuk pola sirkuit logika kelas 1,4 nanometer, dengan produksi massal ditargetkan pada 2027 setelah evaluasi pelanggan.”
Pernyataan resmi DNP itu mencerminkan optimisme perusahaan di tengah persaingan ketat, di mana Canon juga mempercepat produksi sistem NIL-nya di pabrik Utsunomiya baru yang mulai beroperasi penuh tahun ini, sementara Nikon fokus pada alignment station Litho Booster 1000 untuk mendukung proses back-end.
Dengan terobosan ini, Jepang berpotensi mengubah lanskap global manufaktur chip, terutama saat permintaan AI dan edge computing melonjak. Komunitas di Reddit, X, dan Weibo ramai mendiskusikan bagaimana NIL Jepang bisa menjadi “senjata rahasia” melawan dominasi Belanda-Amerika, sekaligus membuka peluang bagi negara berkembang untuk mengakses teknologi canggih dengan biaya lebih rendah. DNP sendiri memproyeksikan bisnis NIL-nya mencapai skala miliaran yen menjelang 2030.
