Teknologi
4 months ago
Jepang Gebrak Dunia Chip! Litografi 10nm Hemat 90% Energi Siap Gantikan EUV ASML di 2027
Jepang rilis litografi nanoimprint 10nm DNP 2025: hemat 90% energi, target 1.4nm chip 2027. Tantang EUV ASML, detail Canon-Nikon & dampak semikonduktor global!
Hasida Kuchiki